由于鉿容易發射電子而很有用處(如用作白熾燈的燈絲)。用作X射線管的陰極，鉿和鎢或鉬的合金用作高壓放電管的電極。常用作X射線的陰極和鎢絲制造工業。純鉿具有可塑性、易加工、，是原子能工業重要材料。鉿的熱子捕獲截面大，是較理想的子吸收體，可作原子反應堆的棒和保護裝置。鉿粉可作火箭的推進器。在電器工業上可制造X射線管的陰極。鉿的合金可作火箭噴嘴和滑翔式重返大氣層的飛行器的前沿保護層，Hf-Ta合金可制造工具鋼及電阻材料。在耐熱合金鉿用作添加元素，例如鎢、鉬、鉭的合金有的添加鉿。HfC由于硬度和熔點高，可作硬質合金添加劑。4TaCHfC的熔點約為4215℃，為已知的熔點的化合物。鉿可作為很多充氣系統的吸氣劑。鉿吸氣劑可除去系統存在的氧、氮等不需要氣體。鉿常作為液壓油的一種添加劑，防止在高危作業時候液壓油的揮發，具有很強的抗揮發性，這個特性的話，所以一般用于工業液壓油、醫學液壓油。

  鉿元素也用于的intel45納米處理器。由于二氧化硅(SiO2)具有易制性(Manufacturability)，且能減少厚度以持續晶體管效能，處理器廠商均采用二氧化硅做為制作柵極電介質的材料。當英特爾導入65納米制造工藝時，雖已全力將二氧化硅柵極電介質厚度降低至1.2納米，相當于5層原子，但由于晶體管縮至原子大小的尺寸時，耗電和散熱難度亦會同時增加，產生電流浪費和不的熱能，因此若繼續采用時下材料，進一步減少厚度，柵極電介質的漏電情況勢將會明顯攀升，令縮小晶體管技術遭遇。為解決此關鍵問題，英特爾正規劃改用較厚的高K材料(鉿元素為基礎的物質)作為柵極電介質，取代二氧化硅，此舉也成功使漏電量降低10倍以上。另與上一代65納米技術相較，英特爾的45納米制程令晶體管密度提升近2倍，得以增加處理器的晶體管總數或縮小處理器體積，此外，晶體管開關動作所需電力更低，耗電量減少近30%，內部連接線(interconnects)采用銅線搭配低k電介質，順利提升效能并降低耗電量，開關動作速度約加快20%。